一、行業簡介
        半導體、集成電路芯（xīn）片及封裝、液晶顯示、高精（jīng）度線路板、光電器件、各（gè）種電子器件、微電子（zǐ）工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度（dù）越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。目前我國電（diàn）子工業部把電子級水質（zhì）技術分為五個行業（yè）等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以（yǐ）區分（fèn）不同水質。
二、應用範圍
1、電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日（rì）化、建材（cái）、造漆、蓄電池、化驗、生物、製藥、石油（yóu）、化工（gōng）、鋼（gāng）鐵、玻璃等領域。
2、化工工藝用水、化學藥劑、化妝品等用純水。
3、單晶矽、半導體晶片切割製造、半導體芯（xīn）片、半導體封裝 、引線櫃架、集成電（diàn）路、液（yè）晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信（xìn）、電腦元件、電容器潔淨產品及各（gè）種（zhǒng）元器件等生產工藝用純水。
三、工藝簡介
1、係（xì）統模塊化設計（jì），共分四部分：預處理係統、反滲透係（xì）統、EDI係統（tǒng）、終端供（gòng）水係統。
2、預處理係統主要用來去除原水中（zhōng）的（de）懸浮物、濁度、色（sè）度、膠體以及（jí）部分有（yǒu）機物，保證產水符合反滲透係統的進水水質要求（qiú）。
3、反滲透係（xì）統主要用來去除原（yuán）水中溶解性鹽類物質、細菌、熱源等，保（bǎo）證產水符合EDI係統進水水質要求（qiú）。
4、EDI係統主要用來對反（fǎn）滲透產水進行進一步脫除溶解性的小分子鹽（yán）類物質（zhì），產水（shuǐ）達到電阻率達到15MΩ.cm以上。
5、終端供水係（xì）統主要（yào）是用來將合格（gé）水輸送至用水點，輸送過程中對EDI產生進行最後的離子交換脫鹽，使得（dé）產水達到電阻率達到18MΩ.cm以上。
6、整個係統進行集中控製。

四、技術特色
1、係統模塊化設計，占地（dì）麵積（jī）小，操作維護方便，安裝方便快捷，整（zhěng）體美觀。
2、整套係統實現全自動化運行，並且手動與自動自由切換。
3、設（shè）備產水（shuǐ）水質穩定（dìng），運（yùn）行連（lián）續穩定。
4、係統工藝先進，無需化學藥品再生，無危害性廢液排放。
5、係統節水率高，係統回收（shōu）率在75%以上。
6、關鍵部位采用（yòng）在（zài）線（xiàn）儀表監測，適時數據上傳。
五、設備參數
1、係統回（huí）收率：
        超濾≥90%
        一級反滲透≥75%
        二級反滲（shèn）透≥85%
        EDI係統（tǒng）≥90%
2、設備產水符合《電子超純水國家標準》 （GB/T1144.6.1-1997）或美國半導（dǎo）體工業純水指標。
3、單支膜脫鹽（yán）率≥99.5%（水溫25℃）。